Gewerblicher Rechtsschutz II - Patent und Gebrauchsmuster - Aufbaukurs: Patent und Gebrauchsmuster
Kurs
In München
Beschreibung
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Kursart
Kurs
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Ort
München
Dieses Seminar gibt Ihnen ein intensives Aufbaustraining im Gewerblichen Rechtsschutz und ist insbesondere für Formalsachbearbeiter und PAFAs ausgelegt. Informieren Sie sich gerne.
Standorte und Zeitplan
Lage
Beginn
Beginn
Meinungen
Erfolge dieses Bildungszentrums
Sämtlich Kurse sind auf dem neuesten Stand
Die Durchschnittsbewertung liegt über 3,7
Mehr als 50 Meinungen in den letzten 12 Monaten
Dieses Bildungszentrum ist seit 16 Mitglied auf Emagister
Themen
- Markenrecht
- Formalsachbearbeiter
- Grundlagen
- Fristen
- IR-Marke
- Gewerblicher Rechtsschutz
- Schutzrechte
- Geschmacksmuster
- Patentrecht
- PCT-Anmeldung
- Gemeinschaftsmarke
- Sekretärinnen
- Assistentinnen
- Kostenrecht
- Gebührenrecht
- EPÜ-Reform
Inhalte
Gewerblicher Rechtsschutz II - Patent und Gebrauchsmuster - Aufbaukurs: Patent und Gebrauchsmuster