Gewerblicher Rechtsschutz II - Patent und Gebrauchsmuster - Aufbaukurs: Patent und Gebrauchsmuster

Kurs

In München

Preis auf Anfrage

Beschreibung

  • Kursart

    Kurs

  • Ort

    München

Dieses Seminar gibt Ihnen ein intensives Aufbaustraining im Gewerblichen Rechtsschutz und ist insbesondere für Formalsachbearbeiter und PAFAs ausgelegt. Informieren Sie sich gerne.

Standorte und Zeitplan

Lage

Beginn

München (Bayern)
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auf Anfrage

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Erfolge dieses Bildungszentrums

2020

Sämtlich Kurse sind auf dem neuesten Stand

Die Durchschnittsbewertung liegt über 3,7

Mehr als 50 Meinungen in den letzten 12 Monaten

Dieses Bildungszentrum ist seit 16 Mitglied auf Emagister

Themen

  • Markenrecht
  • Formalsachbearbeiter
  • Grundlagen
  • Fristen
  • IR-Marke
  • Gewerblicher Rechtsschutz
  • Schutzrechte
  • Geschmacksmuster
  • Patentrecht
  • PCT-Anmeldung
  • Gemeinschaftsmarke
  • Sekretärinnen
  • Assistentinnen
  • Kostenrecht
  • Gebührenrecht
  • EPÜ-Reform

Inhalte

"Dieses Aufbauseminar gibt einen vertiefenden Überblick über die einzelnen Schutzrechte auf allen drei Ebenen. Das Niveau Ihres Fachwissens wird gesteigert und vorangetrieben. Lernen Sie die Besonderheiten der verschiedenen Schutzrechtsarten kennen. Dies wirkt positiv auf Ihre tägliche Praxis. Nach dem Besuch des Seminars sind Sie in der Lage, die unterschiedlichen Mechanismen der Anmeldeverfahren zu beschreiben, mit den Gesetzen und Verordnungen zu arbeiten, mit den Rechtsmitteln und Rechtsbehelfen umzugehen, Teilschritte und den Stand der Rechtsschutzanmeldung einzuschätzen, Mängel im Anmeldeverfahren zu beheben und Ihren Vorgesetzten und Ihr Team somit fachkundig zu unterstützen. Nutzen Sie die beiden Tage für eine kompakte und vertiefende Schulung über die gesamten gewerblichen Schutzrechte von der Anmeldung bis hin zur Eintragung."

Gewerblicher Rechtsschutz II - Patent und Gebrauchsmuster - Aufbaukurs: Patent und Gebrauchsmuster

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