Forum Institut für Management GmbH

Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster - Die gefährlichsten IP-Waffen in Angriff und Verteidigung

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In München

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Wichtige informationen

Tipologie Seminar
Ort München
Dauer 1 Tag
Beginn 26.03.2020
  • Seminar
  • München
  • Dauer:
    1 Tag
  • Beginn:
    26.03.2020
Beschreibung

Dieses Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem strategisch maximal effizient einsetzen können. Das notwendige Wissen wird anhand einer Vielzahl von Case Studies vermittelt, die alle tatsächlichen Fällen aus der Praxis nachgebildet sind. Zugleich erhalten Sie einen aktuellen Überblick über die zentralen Entwicklungen der Rechtsprechung zu
Offenbarung, Schutzfähigkeit und Schutzbereich.




Durch die Bezugnahme auf das chinesische Gebrauchsmustersystem wird eine globale Perspektive vermittelt, da das Gebrauchsmusterrecht
in Deutschland und China die im internationalen Vergleich mit Abstand größte Rolle spielt.

Einrichtungen (1)
Wo und wann
Beginn Lage
26.März 2020
München
Berliner Str. 93, 80805, Bayern, Deutschland
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Beginn 26.März 2020
Lage
München
Berliner Str. 93, 80805, Bayern, Deutschland
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Zu berücksichtigen

· An wen richtet sich dieser Kurs?

Sie sind als Mitarbeiter einer Rechts-, IP-, Patent- oder F+E-Abteilung zuständig bei Verletzungen technischer Schutzrechte und möchten Ihr Arsenal um eine weitere IPWaffe ergänzen? Oder beraten Sie als Rechtsanwalt oder Patentanwalt auf diesem Feld?

Dann ist dies das richtige Seminar für Sie! Vorkenntnisse im gewerblichen Rechtsschutz werden vorausgesetzt.

Fragen & Antworten

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Was lernen Sie in diesem Kurs?

Verteidigung

Themenkreis

- Gebrauchsmusterverletzungsverfahren: der effizientere Patentverletzungsprozess? - Patent- und Gebrauchsmusterverletzungsprozess: wie kann man das Zusammenspiel optimal nutzen? - Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung - Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH? - Löschungsverfahren: Überraschungen vermeiden